Spansion公司和联华电子公司联合开发40nm工艺技能

  Spansion 4日一起宣告，将打开40纳米工艺研制协作，整合联华电子40纳米LP逻辑工艺，以及Spansion eCTTM （embedded Charge Trap， eCT）电荷撷取闪存技能。此份非专属授权协议包含了授权联华电子选用此技能为Spansion制作

  Spansion嵌入式电荷撷取技能是兼具高效能、低功耗及本钱效益的NOR闪存技能，且此项新技能可与先进逻辑工艺相整合，用于体系单芯片产品上。此外，该技能可微缩至40纳米以下，并可与High-k工艺结合。选用Spansion eCT技能的产品，将促进工业、轿车与消费性电子等运用产品所选用之技能，朝向更快速、更顶级的研制方向跨进。Spansion的eCT技能是扩展该公司PSS （Programmable System Solutions）产品技能蓝图的首要推手，其结合闪存与逻辑电路后，可强化需求很多运用内存，处理器与MIPS之运用产品的处理效能。

  Spansion公司总裁暨执行长John Kispert表明：与联华电子并肩协作，可进一步拓宽Spansion的授权工作战略。藉由与联华电子这样的业界领导者协作，咱们可更有正派地扩展本公司PSS产品技能蓝图与授权事务。除此之外，其它公司也将得以受惠于咱们的电荷撷取技能，藉此跨入新商场，一起取得更高的附加价值

  联华电子营运长陈文洋表明：联华电子等待与Spansion公司携手，整合咱们的40纳米工艺与Spansion的电荷内存技能，使用两边优势，一起打造业界顶尖的逻辑龙凤之姿。此次研制效果将可为不一样的产品商场的客户，带来具本钱效益的立异技能解决方案。